오늘은 EUV 마스크가 포토 공정에서 어떤 역할을 하는지 알아보는 글을 준비했습니다. 반도체의 포토 리소그래피(Photo Lithography) 공정은 광원의 발전과 함께 이어져 왔습니다. 최근 포토 리소그래피의 발전에 크게 영향을 미치는 것중의 하나가 EUV 광원을 사용하여 미세한 패턴을 만드는 것입니다. EUV 광원과 함께 발전되어온 EUV 마스크는 어떤 특징이 있는지 이 글에서 알아보도록 하겠습니다. EUV 마스크의 포토공정에서 중요성 반도체 … Read more
브래그 법칙은 X선이나 빛의 입자가 결정 구조 내에서 상호작용할 때 발생하는 현상을 설명하는 법칙입니다. 이 법칙은 1912년 윌리엄브래그와 윌리엄 로렌스 브래그 형제에 의해 발견되었습니다. 브래그 법칙은 생각보다 쉬운 법칙이니 아래의 설명을 잘 듣고 도움 받으시길 바랍니다. 브래그 법칙(Bragg’s raw)이란? 원자의 배열이 한 공간에 일정하게 반복되는 패턴을 가지는 물질을 우리는 결정(crystal solid)이라고 합니다. 물질은 액체 상태에서는 … Read more
광학에서 특히 측정분야에서 가장 중요로 하는 것이 무엇일까요? 제가 생각하는 것은 Resolution 분해능이라고 생각합니다. 분해능은 얼마나 미세한 패턴을 살펴볼 수 있는지 그 성능을 나타내는 지표 입니다. 이 지표가 높을 수록 측정능력이 뛰어나 보다 많은 곳에서 활용되기 때문에 단연코 이 능력이 가장 우선시 되는 것이라고 생각합니다. 그렇다면 그 Resolution 이 뭔지 한번 살펴 보도록 하겠습니다. 광학에서 … Read more